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我公司采用的現(xiàn)代超純水制造工業(yè)純水設備典型工藝流程為:
我公司采用的現(xiàn)代超純水制造工業(yè)純水設備典型工藝流程為: 
1: 預處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點 
2: 預處理-一級反滲透-二級反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
3: 預處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
4: 預處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點
水質(zhì)符合美國ASTM標準,電子部超純水水質(zhì)標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)
北京EDI超純水設備流程圖

設計原則: 
☆ 品質(zhì)---依照客戶生產(chǎn)所需超純水的水質(zhì)要求及生產(chǎn)特點,并考慮水源的水質(zhì)(需客戶提供水質(zhì)分析報告或源水樣品)。
☆ 可擴充性—系統(tǒng)分段設計規(guī)劃,考慮就近用水和生產(chǎn)安全需要,可依照生產(chǎn)線需求隨時擴充產(chǎn)能,客戶可分階段投資。
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗電子管生產(chǎn) 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn) 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產(chǎn) 屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。
二、典型工藝流程
預處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM) (最新工藝)    
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)

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